据俄罗斯媒体报道，为了推动光刻机自研的进展，快科技已经敲定了相关合作伙伴。
据悉，俄方将为白俄罗斯微电子领域的两个项目提供约100亿卢布的信贷支持。所资助的企业包括集成电路成套工艺领域的Integral和精密光刻设备领域的Planar。
白俄罗斯还透露，两国已经签署了建立光掩模开发和生产联合中心的协议。这将使我们能够开展联合开发工作，减少白俄罗斯和俄罗斯消费者对进口供应的依赖。
资料显示，Planar (KBTEM-OMO)是东欧最大的半导体设备供应商，拥有超过50年的半导体设备研发和制造历史。其产品包括基于激光直写的图形发生器、掩膜检测设备、掩膜修复设备、接近/接触式掩膜版光刻机、投影掩膜版光刻机和硅片检测设备。
在此之前，俄罗斯科学院研发的掩膜版光刻机将于2028年问世，可生产7nm芯片。据报道，国际制裁切断对俄供应后，俄罗斯筹码短缺，美国、英国和欧盟也祭出多项制裁。几乎所有先进的晶圆制造商都停止了与俄罗斯实体的合作，ARM也无法将他们的技术授权给俄罗斯芯片设计师。
俄罗斯诺夫哥罗德战略发展署大胆表态，声称俄罗斯科学院下属的应用物理研究所将在所有人的目光下，在2028年研发出可以生产7纳米芯片的掩膜版光刻机，并击败ASML的同类产品。
俄罗斯科学院纳米结构研究所副所长表示，ASML是全球光刻机的领导者，近20年来一直致力于EUV曝光机，目标是让世界顶级半导体制造商保持高生产效率。
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