在光刻机领域当中，荷兰的ASML公司，可谓是有着很强的技术实力，这个比原子弹还难制造出来的光刻机，用专家的话来说，是不能够自己研发出来的，因为我国在光刻机领域当中，还是面临着很高的技术壁垒。
近年来，华为企业的发展，可以说是非常的迅速，尤其是华为在5G领域当中所取得的成就，也是有目共睹的，而不少西方国家，也针对华为企业的发展，采取了不少的制裁措施。
就当华为企业被西方国家所制裁和打压之后，也就陷入了很大的发展困境当中，但同时，也让不少人知道，手中有着技术实力的重要性。
如果说，华为企业在芯片领域当中，并不会受制于人，并且也不会出现卡脖子局面的话，那么无论美国怎样实施打压和制裁，华为企业都将会进行有力的反击，可正是因为华为企业短板的暴露，让美国抓到了华为发展的痛点，并且予以最深的打击。
要知道的是，我国在芯片领域当中的研发时日，相比较于美国来说，的确是会比较的晚一些，这也就导致，我国在芯片领域当中，出现了被卡脖子的局面，芯片断供政策一旦实施之后，除了华为企业受到打击之外，国内的众多科技企业也受到了不同程度的影响。
想要将芯片制作出来的话，则必然是离不开光刻机，有不少网友认为，其实中国是完全可以自主研发光刻机的，因为中国目前整体的实力还是非常可喜的。
然而，我国在中低端光刻机当中，的确是能够取得一定的成就，但由于缺少了高端光刻机的制造经验，这也就导致，我国在高端光刻机领域当中，没有办法实现很好的发展。
在此前，我国的中芯国际就已经向荷兰ASML公司，订购了一台光刻机，可是这一台光刻机却因为美国的阻挠，从而导致迟迟都没有办法交付。
一旦有了光刻机的话，国内芯片制造就不会出现很大的难题，华为企业所深陷的困境，也将会得到最大的解决，尽管华为企业已经将自己的订单量，交到了中芯国际的手中，中芯国际也将会如期的交付，但中芯国际缺少了这个高端光刻机之后，所交出来的芯片，则必然会是中低端的芯片。
毕竟，在高端光刻机领域当中，荷兰ASML公司也基本上是已经形成了其垄断地位，荷兰ASML公司之所以会在高端光刻机领域当中，有着这么强的发展优势，也是和当时台积电的林本坚有着一定的关系。
在ASML公司并没有在光刻机领域当中发展的时候，一直都是日本的光刻机企业取得不错的发展成绩，由于当时林本坚所提出的浸润式光刻机概念，与日本的干式光刻机产品概念有着一定的冲突。
后来，林本坚也就找到了荷兰ASML公司，两者之间达成了合作，这才进一步的促成了荷兰ASML公司，在光刻机领域当中的初步发展。
在那之后，荷兰ASML公司也是有着长远的发展目光，为了能够稳定其客户，也为了能够在市场当中拿下更多的份额，所以就有了一个规定，那就是，任何企业想要向ASML公司订购光刻机的话，都必须要先购买ASML公司的股份。
而在当时，英特尔、台积电以及三星，便是荷兰ASML公司的稳定客户，也是ASML公司的三大股东。
但随着ASML公司不断发展，以及规模不断庞大起来之后，英特尔、台积电以及三星，都相继抛售出手中所拥有的ASML公司股份，截止到目前，美国有两家公司，已经成为了荷兰ASML公司的股东。
值得一提的是，荷兰ASML公司在制作光刻机的时候，不断的去提高技术壁垒，ASML公司的员工还认为，哪怕是将图纸交给各国的企业，那么各国企业都不一定能够将产品研发出来，因为这背后所运用到的，就是各国的先进技术，里面的许多零部件，也是来自于多个国家和地区的。
而ASML公司所拥有的，恰好就是其中的核心技术，现在荷兰ASML公司又采用了美国的光源，以及德国的蔡司技术，这又进一步的加大了高端光刻机攻克的难度。
在我国面临着高端光刻机难题的时候，就有人认为，中国完全可以自主研发，但事实上，用专家的话来说，中国目前还是并没有办法，去研发出高端光刻机的。
之所以专家会有这样的想法，也是因为高端光刻机的背后，所运用到的科学技术是非常的复杂，比如说，当ASML公司制作高端光刻机的时候，除了运用到了德国的工艺技术之外，还会运用到日本的复合材料，以及现在的美国光源。
而作为高端光刻机制作者的人才，也必须要具备着许多的工业知识的支持，其中就包括了物理学、数学以及计算学等，这对高端光刻机人才有着很高的要求。
但我国目前，在人才方面仍然会出现人才储备不足的情况，人才流失也会比较的严重。
此前，ASML公司的三星、台积电以及英特尔这三大股东，所拿下的高端光刻机可以说是非常的多，而我国的企业想要购买到光刻机的话，也必须要等这些股东不需要用上的时候，才能够轮到我国的企业，否则的话，这些先进的光刻机并不是我国企业所能够轻易抢到的。
如果，中国想要自主研发高端光刻机，不仅仅是会很难攻克高端光刻机的技术壁垒，在接下来，还会面临着来自台积电、三星以及英特尔的“特别关注”。
不过，我国虽然是不能够自主研发出高端光刻机，但是在光刻机领域当中，仍然是会有好消息传出，上海微电子在90nm光刻机研发出来的消息传出之后，便能够极大程度上，给到国内其他企业更大的信心。
除此之外，国内的中科院，也已经将超分辨光刻机设备研发出来了，目前所能够达到的研发芯片，已经是10nm工艺进程。
尽管，这和荷兰ASML公司相比，的确是还有着一定的差距，但从我国在芯片领域以及高端光刻机领域当中，相继传出好消息之后，便足以看出，我国在半导体领域当中，还是有着一定的实力，并且未来也将会有着很大的进步空间。
然而，对于我国在芯片领域当中短板的暴露，以及想要更快在芯片领域当中，弥补缺陷的话，便要做到以下几点：
第一点，要有着足够充分的人才储备，人才以及科学技术实力都是非常的重要，而高端光刻机的研发，本身对人才的要求也是非常的高，如果想要攻克高端光刻机其中的相关技术，便一定要对人才有更多充分的培养。
国内的各大高校，也已经建立了集成电路学院，这能够更好的为半导体领域发展输入更多专业性的人才，但这些专业性的人才，要想留下来的话，仍然是离不开社会各方面力量的推动。
科技企业必须要给到足够好的待遇，而国内各大高校在培养人才的时候，也要积极的呼吁这些人才留在国内，为国家的发展作出贡献。
第二个，想要攻克高端光刻机的技术壁垒，还需要不断加大研发和投入，加大研发和投入，是能够将自主研发光刻机这条道路，走得长远的必要保障。
无论是上海微电子还是中科院，相继传出的这些好消息，都足以看出，我国在社会发展起来之后，经济水平也已经有所提高，国内科技企业的自主创新程度，也已经有所加强，在许多领域当中，其实也是取得了非常不错的成就。
尽管，和一些顶尖技术相比，还是会有着很大的差距，但是一旦国内的科技企业继续加大研发投入的话，相信将会取得更加好的成绩，并且不断的缩小差距。
研发和投入力度越大，便会有更多的希望，在芯片领域以及光刻机领域当中，才会有更多的研发和创造经验，因此，对研发和投力度也是千万不能忽视的。
第三个，国内相关政策还应该要更多的倾斜于半导体领域当中，芯片领域当中短板的暴露，所带来的影响可以说是非常的大，无论是从华为企业被芯片断供政策所影响之外，还是中芯国际被实体黑名单点名，足以看出，国内科技企业的发展道路是十分的艰难以及坎坷的。
国家相关政策的扶持，可以给到这些科技企业，更多的发展动力以及发展希望，不然的话，国内科技企业在看不到希望的时候，很容易出现放弃的可能，这也将会不利于国内在半导体领域当中的发展。
总而言之，这种比原子弹还要难制造出来的光刻机，中国目前还是不能够自主研发出来的，但相信只要给足中国科技企业，一定的发展时间，以及给予他们更多的信心，便会不断地缩小与巨头科技企业之间的距离，光刻机的制造也将会指日可待。
